來源：上海證券報·中國證券網

上證報中國證券網訊（記者 劉禮文）10月29日晚間，中微公司發布公告稱，其2025年前三季度實現營業收入80.63億元，同比增長46.40%；歸屬于上市公司股東凈利潤12.11億元，同比增長32.66%。

值得一提的是，中微公司核心業務表現突出，其中刻蝕設備收入61.01億元，同比增長約38.26%；LPCVD和ALD等薄膜設備收入呈現爆發式增長，達到4.03億元，同比增長約1332.69%，成為繼上半年608.19%高增長后的又一亮點。

公告顯示，中微公司前三季度歸母凈利潤同比增長主要原因為：一是在今年前三季度營業收入增長46.40%下，毛利較上年增長約8.27億元；二是由于市場對中微開發多種新設備的需求急劇增長，2025年公司顯著加大研發力度，前三季度公司研發支出較上年同期增長9.79億元（增長約63.44%），研發支出占公司營業收入比例約為31.29%，遠高于科創板均值；三是由于市場波動，公司前三季度計入非經常性損益的股權投資收益為3.29億元，較上年同期增加約2.75億元。

據披露，中微公司針對先進邏輯和存儲器件制造中關鍵刻蝕工藝的高端產品新增付運量顯著提升，先進邏輯器件中段關鍵刻蝕工藝和先進存儲器件的超高深寬比刻蝕工藝實現大規模量產。

其中，CCP方面，公司用于關鍵刻蝕工藝的單反應臺介質刻蝕產品保持高速增長，60比1超高深寬比介質刻蝕設備成為國內標配設備，量產指標穩步提升，下一代90比1超高深寬比介質刻蝕設備即將進入市場；ICP方面，適用于下一代邏輯和存儲客戶用ICP刻蝕設備和化學氣相刻蝕設備開發取得了良好進展。加工的精度和重復性已達到單原子水平。公司為先進存儲器件和邏輯器件開發的LPCVD、ALD等多款薄膜設備已經順利進入市場，并且設備性能完全達到國際領先水平，薄膜設備的覆蓋率不斷增加。公司硅和鍺硅外延EPI設備已順利運付客戶端進行量產驗證，并且獲得客戶高度認可。在泛半導體設備領域，公司正在開發更多化合物半導體外延設備，已陸續付運至客戶端開展生產驗證。